Микроэлектроника

Содержание

Том 52, Номер 2, 2023

Дата выхода: 26.04.23

ДИАГНОСТИКА
Измерения на РЭМ размеров рельефных структур в технологическом процессе производства микросхем
Ю. А. Новиков, М. Н. Филиппов
87-95
КВАНТОВЫЕ ТЕХНОЛОГИИ
Исследование возможности оптимизации взаимодействия NV-центров и фотонов путем изменения формы микрорезонаторов
А. В. Цуканов, И. Ю. Катеев
96-109
ЛИТОГРАФИЯ
Сечения процессов рассеяния при электронно-лучевой литографии
А. Е. Рогожин, Ф. А. Сидоров
110-126
ПРИБОРЫ
Оксидные мемристоры для ReRAM: подходы, характеристики, структуры
А. Г. Исаев, О. О. Пермякова, А. Е. Рогожин
127-151
ТЕХНОЛОГИЯ
Параметры плазмы и кинетика реактивно-ионного травления SiO2 и Si3N4 в смеси HBr/Cl2/Ar
А. М. Ефремов, В. Б. Бетелин, K.-H. Kwon
152-159
Исследование оптических свойств сверхтонких пленок на основе силицида металлов
Э. А. Керимов
160-164

Информация о выпуске

  • Всего статей
    6
  • Страницы
    87-164

Микроэлектроника