Микроэлектроника
Содержание
Том 52, Номер 2, 2023
Дата выхода: 26.04.23
ДИАГНОСТИКА
- Измерения на РЭМ размеров рельефных структур в технологическом процессе производства микросхем
Ю. А. Новиков, М. Н. Филиппов - 87-95
КВАНТОВЫЕ ТЕХНОЛОГИИ
- Исследование возможности оптимизации взаимодействия NV-центров и фотонов путем изменения формы микрорезонаторов
А. В. Цуканов, И. Ю. Катеев - 96-109
ЛИТОГРАФИЯ
- Сечения процессов рассеяния при электронно-лучевой литографии
А. Е. Рогожин, Ф. А. Сидоров - 110-126
ПРИБОРЫ
- Оксидные мемристоры для ReRAM: подходы, характеристики, структуры
А. Г. Исаев, О. О. Пермякова, А. Е. Рогожин - 127-151
ТЕХНОЛОГИЯ
- Параметры плазмы и кинетика реактивно-ионного травления SiO2 и Si3N4 в смеси HBr/Cl2/Ar
А. М. Ефремов, В. Б. Бетелин, K.-H. Kwon - 152-159
- Исследование оптических свойств сверхтонких пленок на основе силицида металлов
Э. А. Керимов - 160-164
Информация о выпуске
- Всего статей6
- Страницы87-164
Микроэлектроника