Микроэлектроника
Содержание
Том 50, Номер 4, 2021
ТЕХНОЛОГИИ МИКРО- И НАНОЭЛЕКТРОНИКИ
- Теоретические основы и промышленная реализация фронтальной фотополимеризации с предельно малой шириной фронта реакции
В. М. Треушников, В. В. Треушников, В. В. Семенов - 243-263
- Применение метода спектральной эллипсометрии для исследования процессов атомно-слоевого осаждения
А. В. Мяконьких, Е. А. Смирнова, И. Э. Клементе - 264-273
ЛИТОГРАФИЯ
- Трансформация спектров нарушенного полного внутреннего отражения в процессе сушки диазохинон-новолачного фоторезиста
Д. И. Бринкевич, С. Д. Бринкевич, А. Н. Петлицкий, В. С. Просолович - 274-280
ПЛАЗМЕННЫЕ ТЕХНОЛОГИИ
- Наноразмерное структурирование арсенида галлия в плазме ВЧ и тлеющего разрядов
А. В. Дунаев, Д. В. Барабанов, Т. А. Жукова - 281-287
МОДЕЛИРОВАНИЕ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИХ ПРОЦЕССОВ МИКРОЭЛЕКТРОНИКИ
- Сравнительный анализ моделирования КМОП мажоритарных элементов при сборе заряда с треков одиночных ионизирующих частиц
В. Я. Стенин, Ю. В. Катунин - 288-298
- Моделирование нуклеации многокомпонентного 2DGaSxSe1 – x с применением эволюционного уравнения
С. М. Асадов - 299-313
- Эффект самонагревания в субмикронных КНИ КМОП транзисторах
С. В. Румянцев, А. С. Новоселов, Н. В. Масальский - 314-320
Информация о выпуске
- Всего статей7
- Страницы243-320
Микроэлектроника