Микроэлектроника

Содержание

Том 50, Номер 4, 2021

 

ТЕХНОЛОГИИ МИКРО- И НАНОЭЛЕКТРОНИКИ
Теоретические основы и промышленная реализация фронтальной фотополимеризации с предельно малой шириной фронта реакции
В. М. Треушников, В. В. Треушников, В. В. Семенов
243-263
Применение метода спектральной эллипсометрии для исследования процессов атомно-слоевого осаждения
А. В. Мяконьких, Е. А. Смирнова, И. Э. Клементе
264-273
ЛИТОГРАФИЯ
Трансформация спектров нарушенного полного внутреннего отражения в процессе сушки диазохинон-новолачного фоторезиста
Д. И. Бринкевич, С. Д. Бринкевич, А. Н. Петлицкий, В. С. Просолович
274-280
ПЛАЗМЕННЫЕ ТЕХНОЛОГИИ
Наноразмерное структурирование арсенида галлия в плазме ВЧ и тлеющего разрядов
А. В. Дунаев, Д. В. Барабанов, Т. А. Жукова
281-287
МОДЕЛИРОВАНИЕ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИХ ПРОЦЕССОВ МИКРОЭЛЕКТРОНИКИ
Сравнительный анализ моделирования КМОП мажоритарных элементов при сборе заряда с треков одиночных ионизирующих частиц
В. Я. Стенин, Ю. В. Катунин
288-298
Моделирование нуклеации многокомпонентного 2DGaSxSe1 – x с применением эволюционного уравнения
С. М. Асадов
299-313
Эффект самонагревания в субмикронных КНИ КМОП транзисторах
С. В. Румянцев, А. С. Новоселов, Н. В. Масальский
314-320

Информация о выпуске

  • Всего статей
    7
  • Страницы
    243-320

Микроэлектроника