Микроэлектроника
Содержание
Том 48, Номер 2, 2019
ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ ПРОЦЕССЫ МИКРО- И НАНОЭЛЕКТРОНИКИ
- Влияние режимов импульсного лазерного осаждения на свойства нанокрисаталлических пленок LiNbO3
З. Е. Вакулов, Ю. Н. Варзарев, Е. Ю. Гусев, А. В. Скрылев, А. Е. Панич, А. В. Мяконьких, И. Э. Клементе, К. В. Руденко, Б. Г. Коноплев, О. А. Агеев - 83-89
- Наноразмерное профилирование поверхности кремния методом локального анодного окисления
В. В. Полякова, И. Н. Коц, В. А. Смирнов, О. А. Агеев - 90-96
- Исследование режимов профилирования поверхности кремния методом фокусированных ионных пучков
И. Н. Коц, А. С. Коломийцев, С. А. Лисицын, В. В. Полякова, В. С. Климин, О. А. Агеев - 97-105
- Формирование диэлектрических нанослоев оксидов алюминия и кремния на полупроводниках AIIIBV
Ю. К. Ежовский - 106-110
МОДЕЛИРОВАНИЕ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИХ ПРОЦЕССОВ МИКРОЭЛЕКТРОНИКИ
- Влияние анизотропии поверхности ферми на электропроводность тонкой неоднородной металлической проволоки
И. А. Кузнецова, Д. Н. Романов, А. А. Юшканов - 111-124
- Особенности кинетики объемных и гетерогенных процессов в плазме смесей CHF3 + Ar и C4F8 + Ar
Д. Б. Мурин, А. М. Ефремов, K.-H. Kwon - 125-133
ДИАГНОСТИКА МАТЕРИАЛОВ
- Исследование термодинамических характеристик композитного магнитного материала на основе анодного оксида алюминия
А. И. Воробьева, Д. Л. Шиманович, О. А. Сычева, Т. И. Езовитова, Д. И. Тишкевич, А. В. Труханов - 134-146
- Изготовлениe и электрические характеристики ассиметричных колец из ВТСП YBCO пленок, полученных методом импульсного лазерного напыления
А. И. Ильин, А. А. Иванов, О. В. Трофимов, А. А. Фирсов, А. В. Никулов, А. В. Зотов - 147-154
ПРИБОРЫ
- Влияние встроенного поверхностного потенциала на ВАХ кремниевых МДП структур
Р. К. Яфаров - 155-159
Информация о выпуске
- Всего статей9
- Страницы83-159
Микроэлектроника