Журнал неорганической химии, 2021, T. 66, № 9, стр. 1185-1191

Получение нанопорошка ZnS и его применение при аддитивном формировании толстопленочных структур

Н. П. Симоненко a*, Н. Ш. Кадыров ab, Т. Л. Симоненко a, Е. П. Симоненко a, В. Г. Севастьянов a, Н. Т. Кузнецов a

a Институт общей и неорганической химии им. Н.С. Курнакова РАН
119991 Москва, Ленинский пр-т, 31, Россия

b Российский химико-технологический университет им. Д.И. Менделеева
125047 Москва, Миусская пл., 9, Россия

* E-mail: n_simonenko@mail.ru

Поступила в редакцию 30.04.2021
После доработки 11.05.2021
Принята к публикации 12.05.2021

Полный текст (PDF)

Аннотация

Изучен процесс синтеза наночастиц сульфида цинка методом химического осаждения. С помощью синхронного термического анализа исследовано термическое поведение полученного нанопорошка в атмосфере воздуха в интервале температур 25–500°С. Вещество идентифицировано с применением рентгенофазового анализа и ИК-спектроскопии. Размер образовавшихся наночастиц определен с помощью просвечивающей электронной микроскопии. Функциональные чернила на основе синтезированного сульфида цинка использованы для формирования толстопленочных наноструктур ZnS методом микроэкструзионной печати. С применением растровой электронной микроскопии изучена микроструктура полученного покрытия, а его электрофизические свойства оценены методом импедансной спектроскопии. Показано, что микроэкструзионная печать является эффективной не только в биопринтинге, но и при формировании полупроводниковых покрытий.

Ключевые слова: сульфид цинка, квантовые точки, нанопорошок, покрытие, ацетат цинка, микроэкструзионная печать

ВВЕДЕНИЕ

Благодаря сочетанию электрофизических и оптических свойств сульфид цинка является очень востребованным полупроводниковым материалом в широком спектре областей науки и техники. В зависимости от температуры ZnS характеризуется кубической (α-ZnS, цинковая обманка, или сфалерит, пр. гр. $F\bar {4}3m,$ ширина запрещенной зоны 3.54 ± 3.76 эВ) и гексагональной (β-ZnS, структура вюрцита, пр. гр. P63mc, ширина запрещенной зоны 3.74 ± 3.91 эВ) кристаллической структурой [1]. В связи с этим сульфид цинка и материалы на его основе в наноразмерном состоянии могут эффективно применяться в качестве квантовых точек в оптоэлектронных и люминесцентных устройствах [2], УФ-светодиодах, хемосенсорике (в составе рецепторных компонентов резистивных газовых сенсоров), энергетике (в частности, при изготовлении просветляющих покрытий в солнечных элементах) [3, 4], биомедицине [5], катализе [611], фотонике и спинтронике [12, 13], а также в твердотельных лазерах и высокоскоростных переключателях сопротивления [14]. При этом синтез осуществляется различными методами: химическое осаждение [3, 4, 6, 9, 1316], твердофазный [5], сольво- [8, 12, 1719] и гидротермальный синтез [2, 10, 11], осаждение в микрокаплях аэрозоля [20], газофазный синтез [21] и синтез в микроэмульсиях [22]. В качестве источника цинка при синтезе ZnS, как правило, используют ацетат, нитрат, хлорид, сульфат, а также координационные соединения цинка. Наиболее распространенными источниками серы являются сульфид и тиосульфат натрия, тиомочевина, тиоацетамид и цистеин.

Применение сульфида цинка в различных областях зачастую связано с получением покрытий соответствующего состава. Для формирования подобных планарных структур применяются такие подходы, как электрохимическое осаждение [23], магнетронное напыление [24], импульсное лазерное осаждение [25], метод погружения подложки (dip-coating) [26] или химическая модификация предварительно нанесенных структур ZnO [27]. При этом указанные методы, несмотря на их преимущества, имеют и ряд недостатков. Так, они имеют существенные ограничения при формировании покрытий сложной геометрии и адресном нанесении материала на определенную (в том числе миниатюрную) область подложки. Данную проблему в значительной степени позволяют решить методы аддитивного формирования функциональных наноматериалов планарного типа: струйная [2831], микроплоттерная [32, 33], перьевая плоттерная [34, 35], аэрозольная [36] и другие типы печатных технологий. Данные методы очень удобны при формировании тонкопленочных наноструктур. Для получения покрытий большей толщины более подходящей технологией является микроэкструзионная печать [37], где в качестве функциональных чернил могут применяться достаточно вязкие дисперсные системы. Указанный подход активно применяется в биопринтинге [38], но является практически не изученным с точки зрения изготовления полупроводниковых наноматериалов планарного типа.

Таким образом, цель настоящей работы – получение нанопорошка ZnS и его применение при формировании покрытий соответствующего состава с помощью микроэкструзионной печати.

ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНАЯ ЧАСТЬ

В качестве реагентов в работе использовали гидраты ацетата цинка Zn(CH3COO)2 · 2H2O и сульфида натрия Na2S · 9H2O. На первом этапе из расчета целевой массы ZnS 0.5 г готовили растворы данных соединений (c = 0.1 моль/л) в дистиллированной воде, затем к раствору ацетата цинка при перемешивании и температуре 25°С по каплям (со скоростью 1 мл/мин) добавляли раствор сульфида натрия, в результате чего происходило образование частиц твердой фазы, которые отделяли от маточного раствора и промывали дистиллированной водой путем циклического центрифугирования. Далее полученный осадок редиспергировали в 25 мл дистиллированной воды, образовавшуюся дисперсную систему помещали в стальной автоклав с тефлоновым вкладышем (степень заполнения 50%), затем с целью повышения степени кристалличности частиц сульфида цинка проводили гидротермальную обработку при температуре 160°С в течение 2 ч (скорость нагрева 5 град/мин). После естественного охлаждения системы до 25°С частицы ZnS отделяли и дополнительно промывали дистиллированной водой путем циклического центрифугирования. Далее с целью удаления остаточной дисперсионной среды проводили сушку порошка при 60°С в течение 5 ч.

Термическую стабильность полученного порошка ZnS в интервале температур 25–500°С (скорость нагрева 10 град/мин) в токе воздуха (250 мл/мин) изучали с помощью совмещенного ТГА/ДСК/ДТА анализатора SDT Q-600 (навеска 13.1080 мг). ИК-спектры пропускания полученного нанопорошка в диапазоне волновых чисел 350–4000 см–1 записывали с использованием ИК-Фурье-спектрометра ИнфраЛЮМ ФТ-08 (время накопления сигнала составляло 15 с, разрешение – 1 см–1), использовали суспензию порошка в вазелиновом масле, которую помещали в виде пленки между стеклами KBr. Микроструктуру наночастиц ZnS изучали методом просвечивающей электронной микроскопии (микроскоп JEOL JEM-1011 с цифровой фотокамерой ORIUS SC1000W).

Далее порошок ZnS применяли для получения стабильных дисперсных систем, подходящих по своим реологическим характеристикам (динамическая вязкость 300 сП) для применения в качестве функциональных чернил при формировании планарных наноструктур соответствующего состава на специализированной подложке (пластина из Al2O3 (Ra = 100 нм) с нанесенными встречно-штыревыми электродами и микронагревателем на оборотной стороне) (рис. 1) с помощью микроэкструзионной печати. Так, для получения функциональных чернил проводили гомогенизацию наночастиц ZnS в присутствии этилцеллюлозы и α-терпинеола (массовая доля частиц твердой фазы составляла 30%) до образования устойчивой пасты. Микроэкструзионную печать покрытия ZnS осуществляли с помощью трехкоординатной системы позиционирования и пневматического дозатора (давление над чернилами 1.1 атм), оснащенного диспенсером и иглой калибра G27 (внутренний диаметр 210 мкм). Скорость перемещения диспенсера над поверхностью подложки составляла 1 мм/с, длительность импульса и интервал между импульсами при дозировании пасты 0.5 с. Полученное таким образом покрытие далее подвергали сушке и термообработке при 350°С в течение 1 ч с целью удаления растворителя и связующего.

Рис. 1.

Результаты синхронного (ТГА/ДСК) термического анализа (а) и ИК-спектроскопии (б) нанопорошка ZnS.

Рентгенофазовый анализ (РФА) порошка и полученного на его основе покрытия ZnS выполняли на дифрактометре Bruker D8 Advance (излучение CuKα = 1.5418 Å, Ni-фильтр, E = 40 кэВ, I = = 40 мА, диапазон 2θ 5°–80°, разрешение 0.02°, время накопления сигнала в точке 0.3 с). Микроструктуру и элементный состав порошка и покрытия изучали с помощью растровой электронной микроскопии (РЭМ) на трехлучевой рабочей станции NVision 40 (Carl Zeiss), оснащенной энергодисперсионным микрозондовым анализатором Oxford Instruments X-MAX 80.

Исследование электропроводности покрытия ZnS, нанесенного на поверхность Pt/Al2O3/Pt-подложки, было выполнено методом импедансной спектроскопии с использованием потенциостата/гальваностата Р-45Х с модулем измерения электрохимического импеданса FRA-24M в диапазоне частот 1 МГц–1 кГц. Измерения импеданса проводили на воздухе при температурах 250 и 350°С. Температуру поддерживали с помощью нанесенного на подложку Pt-микронагревателя и контролировали с использованием тепловизора Testo 868. Величину удельного сопротивления покрытия рассчитывали с использованием программы ZView Scribner Associates, Inc (Version3.3c).

РЕЗУЛЬТАТЫ И ОБСУЖДЕНИЕ

Результаты синхронного (ТГА/ДСК) термического анализа (рис. 1а) полученного порошка ZnS демонстрируют, что при нагревании с 25 до 500°С имеется ступенчатая потеря массы, связанная с десорбцией атмосферных газов, испарением остаточной дисперсионной среды и удалением молекул связанной воды. Так, первая ступень потери массы (~5.5%) продолжается до 260°С и сопровождается эндотермическим эффектом с максимумом при 60.3°С. Дальнейшее повышение температуры приводит к ускорению потери массы – в интервале 260–285°С Δm составляет ~0.7%. Максимум соответствующего эндотермического эффекта находится при 277.3°С. Далее в температурных диапазонах 285–345 и 345–440°С наблюдаются две ступени потери массы (~1.2 и 2.6% соответственно), не сопровождающиеся заметными тепловыми эффектами. На кривой ТГА в интервале температур 440–500°С заметно начало следующего этапа потери массы, сопровождающегося выделением энергии (максимум теплового эффекта при 470.5°С), связанного, вероятно, с окислением сульфида цинка. Итоговая потеря массы порошка ZnS в исследуемом интервале температур составила ~10.9%. Таким образом, установлено, что полученный порошок сульфида цинка в воздушной атмосфере стабилен до ~450°С.

По данным ИК-спектроскопии (рис. 1б), полоса поглощения в диапазоне волновых чисел 580–675 см–1 с максимумами при 637 и 667 см–1 относится к колебаниям связи Zn–S, что подтверждает образование сульфида цинка.

По данным РФА порошка (рис. 2), на соответствующей рентгенограмме наблюдаются рефлексы с максимумами при 28.7°, 47.9° и 56.7°, соответствующие кристаллографическим плоскостям (111), (220) и (311), что свидетельствует об образовании в ходе синтеза однофазного сульфида цинка с кубической кристаллической решеткой (α-ZnS, цинковая обманка, или сфалерит, пр. гр. $F\bar {4}3m$). При этом каких-либо кристаллических примесей в составе порошка не обнаружено. Таким образом, результаты рентгенофазового анализа хорошо согласуются с данными ИК-спектроскопии. Средний размер ОКР для исследуемого порошка был рассчитан по формуле Шеррера: d = Kλ/β cos θ, где d – средний размер ОКР, K = 0.9 в приближении, что частицы порошка имеют сферическую форму, λ – длина волны рентгеновского излучения, β – ширина рефлекса на полувысоте, θ – угол дифракции. Так, средний размер ОКР составил около 4.1 ± 0.4 нм, что свидетельствует о формировании квантовых точек сульфида цинка.

Рис. 2.

Рентгенограммы нанопорошка ZnS и соответствующего покрытия, нанесенного методом микроэкструзионной печати на поверхность подложки Pt/Al2O3/Pt.

Как видно из результатов РЭМ (рис. 3а, 3б), порошок ZnS имеет однородную микроструктуру и представляет собой пористые агломераты, состоящие из сферических частиц размером 21 ± 2 нм, которые, вероятно, состоят из частиц еще меньшего размера. Соответствие элементного состава исследуемого нанопорошка целевому было подтверждено с помощью рентгеноспектрального элементного анализа в рамках растровой электронной микроскопии.

Рис. 3.

Микроструктура нанопорошка ZnS (а, б) и соответствующего покрытия (в, г) (по данным растровой электронной микроскопии).

Более детальное изучение микроструктуры сформировавшихся наночастиц ZnS было проведено методом просвечивающей электронной микроскопии (рис. 4). Полученные результаты также свидетельствуют о получении однородного материала с узким распределением частиц по размерам (4.0 ± 0.5 нм). Видно, что в данном случае средний размер частиц практически полностью совпадает со средним размером ОКР, определенным с помощью РФА. При изучении микроструктуры нанопорошка ZnS с помощью растровой и просвечивающей электронной микроскопии не обнаружено примесных компонентов, отличающихся размером и формой частиц.

Рис. 4.

Микроструктура нанопорошка ZnS (по данным просвечивающей электронной микроскопии).

Далее полученный и охарактеризованный нанопорошок ZnS применяли для получения на его основе устойчивой дисперсной системы, подходящей по своим реологическим характеристикам для применения в качестве функциональных чернил при формировании толстопленочного покрытия соответствующего состава на поверхности специализированной Pt/Al2O3/Pt-подложки. Как видно из рис. 5, сульфидное покрытие равномерной толщины было точно нанесено на область платиновых встречно-штыревых электродов.

Рис. 5.

Внешний вид подложки Pt/Al2O3/Pt с нанесенным покрытием ZnS.

По данным РФА (рис. 2), термообработка при 350°С не привела к изменению кристаллической структуры материала – покрытие, как и исходный порошок, имеет кубическую кристаллическую решетку сфалерита. При этом средний размер ОКР по сравнению с порошком увеличился всего на 5% – до 4.3 ± 0.4 нм, что свидетельствует о высокой стабильности дисперсности синтезированного сульфида цинка в диапазоне температур 25–350°С. При термообработке покрытия не зафиксировано взаимодействия с подложкой, а наблюдаемые на рентгенограмме узкие интенсивные рефлексы относятся к материалу подложки.

Как видно из результатов растровой электронной микроскопии (рис. 3в, 3г), сформированное покрытие характеризуется однородной микроструктурой, не имеет существенных дефектов и состоит из наночастиц, размер которых в ходе термообработки практически не меняется по сравнению с исходным порошком. При этом в структуре покрытия ZnS наблюдается бимодальное распределение пор по размерам с максимумами при 20 и 200 нм.

На следующем этапе были изучены электрофизические свойства напечатанного на поверхности Pt/Al2O3/Pt-подложки нанокристаллического покрытия ZnS. Так, с помощью метода импедансной спектроскопии были получены частотные зависимости комплексного импеданса (рис. 6) сульфидной планарной наноструктуры и рассчитаны величины ее удельной электропроводности в зависимости от температуры. Так, было показано, что электропроводность покрытия при повышении температуры от 250 до 350°С растет в 2.6 раза – с 1.35 × 10–8 до 3.52 × 10–8 См/см.

Рис. 6.

Спектры импеданса сформированного покрытия ZnS при температурах 250 и 350°С.

ЗАКЛЮЧЕНИЕ

Изучен процесс синтеза квантовых точек ZnS методом химического осаждения, совмещенным с гидротермальной обработкой. Полученный нанопорошок использован для получения устойчивой дисперсной системы, подходящей по своим реологическим свойствам для применения в качестве функциональных чернил при формировании покрытия сульфида цинка методом микроэкструзионной печати.

По данным рентгенофазового анализа, в ходе синтеза образовался однофазный сульфид цинка с кубической кристаллической решеткой (α-ZnS, цинковая обманка, или сфалерит, пр. гр. $F\bar {4}3m$). Показано, что полученный порошок ZnS состоит из частиц размером 4.0 ± 0.5 нм (по результатам просвечивающей электронной микроскопии), что практически полностью совпадает с определенным размером ОКР. Таким образом, сформировавшиеся сульфидные частицы являются монокристаллическими. Термообработка при 350°С не привела к изменению кристаллической структуры материала. При этом средний размер ОКР по сравнению с порошком увеличился всего на 5% – до 4.3 ± 0.4 нм, что свидетельствует о высокой стабильности дисперсности синтезированного сульфида цинка в диапазоне температур 25–350°С. С помощью импедансной спектроскопии были получены частотные зависимости комплексного импеданса сульфидной планарной наноструктуры и рассчитаны величины ее удельной электропроводности в зависимости от температуры. Установлено, что электропроводность напечатанного покрытия при повышении температуры от 250 до 350°С увеличивается в 2.6 раза – с 1.35 × 10–8 до 3.52 × 10–8 См/см.

Таким образом, было показано, что микроэкструзионная печать является эффективной не только в биопринтинге, но и при формировании полупроводниковых покрытий, в том числе на основе ZnS.

Список литературы

  1. Sadovnikov S.I. // Russ. Chem. Rev. 2019. V. 88. № 6. P. 571. https://doi.org/10.1070/RCR4867

  2. Clark R.M., Carey B.J., Daeneke T. et al. // Nanoscale. 2015. V. 7. № 40. P. 16763. https://doi.org/10.1039/C5NR04790K

  3. Jabeen U., Shah S.M., Hussain N. et al. // J. Photochem. Photobiol., A: Chem. 2016. V. 325. P. 29. https://doi.org/10.1016/j.jphotochem.2016.04.003

  4. Mansour A.F., Abdo M.A., Maged F.A. et al. // J. Inorg. Organomet. Polym. Mater. 2021. V. 31. № 4. P. 1443. https://doi.org/10.1007/s10904-021-01884-8

  5. Wang X., Dai W., Duo S. et al. // IOP Conf. Ser. Mater. Sci. Eng. 2019. V. 678. P. 012127. https://doi.org/10.1088/1757-899X/678/1/012127

  6. Pradeep S., Raghuram S., Chaudhury M.G. et al. // J. Nanosci. Nanotechnol. 2017. V. 17. № 2. P. 1125. https://doi.org/10.1166/jnn.2017.12599

  7. Safaei-Ghomi J., Asadian S., Nazemzadeh S.H. et al. // J. Chinese Chem. Soc. 2018. V. 65. № 4. P. 430. https://doi.org/10.1002/jccs.201700250

  8. Wei Q., Yin M., Yao Y. // J. Mater. Sci. Mater. Electron. 2017. V. 28. № 23. P. 17827. https://doi.org/10.1007/s10854-017-7723-7

  9. Kaur S., Sharma S., Kansal S.K. // Superlattices Microstruct. 2016. V. 98. P. 86. https://doi.org/10.1016/j.spmi.2016.08.011

  10. Hanifehpour Y., Soltani B., Amani-Ghadim A.R. et al. // Mater. Res. Bull. 2016. V. 76. P. 411. https://doi.org/10.1016/j.materresbull.2015.12.035

  11. Park J.-Y., Choi D.-Y., Hwang K.-J. et al. // J. Nanosci. Nanotechnol. 2015. V. 15. № 7. P. 5224. https://doi.org/10.1166/jnn.2015.10374

  12. Cai J., Wang S., Zhu K. et al. // RSC Adv. 2018. V. 8. № 1. P. 374. https://doi.org/10.1039/C7RA12714F

  13. Poornaprakash B., Chalapathi U., Sekhar M.C. et al. // J. Supercond. Nov. Magn. 2017. V. 30. № 2. P. 529. https://doi.org/10.1007/s10948-016-3802-x

  14. Sadovnikov S.I., Ishchenko A.V., Weinstein I.A. // Russ. J. Inorg. Chem. 2020. V. 65. № 9. P. 1312. https://doi.org/10.1134/S0036023620090144

  15. Sahin O., Horoz S. // J. Mater. Sci. Mater. Electron. 2018. V. 29. № 19. P. 16775. https://doi.org/10.1007/s10854-018-9771-z

  16. Motejadded Emrooz H.B., Rahmani A.R. // Mater. Sci. Semicond. Process. 2017. V. 72. P. 15. https://doi.org/10.1016/j.mssp.2017.08.018

  17. Lee A., Huang M.H. // J. Chinese Chem. Soc. 2020. V. 67. № 3. P. 339. https://doi.org/10.1002/jccs.201900371

  18. Riaz S., Raza Z.A., Majeed M.I. et al. // Mater. Res. Express. 2018. V. 5. № 5. P. 055027. https://doi.org/10.1088/2053-1591/aac1f9

  19. Sirait M., Motlan // IOP Conf. Ser. Mater. Sci. Eng. 2017. V. 223. P. 012027. https://doi.org/10.1088/1757-899X/223/1/012027

  20. Bednář J., Svoboda L., Mančík P. et al. // Mater. Sci. Technol. 2019. V. 35. № 7. P. 775. https://doi.org/10.1080/02670836.2019.1590514

  21. Pomar C.D., Souza A.T., Sombrio G. et al. // ChemistrySelect. 2018. V. 3. № 13. P. 3774. https://doi.org/10.1002/slct.201800383

  22. Koroleva M.Y., Gulyaeva E.V., Yurtov E.V. // Russ. J. Inorg. Chem. 2012. V. 57. № 3. P. 320. https://doi.org/10.1134/S0036023612030151

  23. Patil J.S., Dhasade S.S., Babar A.R. et al. // Superlattices Microstruct. 2015. V. 83. P. 565. https://doi.org/10.1016/j.spmi.2015.02.038

  24. Abdallah B., Kakhia M., Zetoune W. // World J. Eng. 2020. V. 17. № 3. P. 381. https://doi.org/10.1108/WJE-10-2019-0300

  25. Yang K., Li B., Zeng G. // Superlattices Microstruct. 2019. V. 130. P. 409. https://doi.org/10.1016/j.spmi.2019.05.009

  26. Goktas A., Tumbul A., Aba Z. et al. // Opt. Mater. (Amst). 2020. V. 107. P. 110073. https://doi.org/10.1016/j.optmat.2020.110073

  27. Bera A., Basak D. // ACS Appl. Mater. Interfaces. 2010. V. 2. № 2. P. 408. https://doi.org/10.1021/am900686c

  28. Ho S.-J., Hsu H.-C., Yeh C.-W. et al. // ACS Appl. Mater. Interfaces. 2020. V. 12. № 29. P. 33346. https://doi.org/10.1021/acsami.0c05646

  29. Ummartyotin S., Bunnak N., Juntaro J. et al. // Comptes Rendus Phys. 2012. V. 13. № 9–10. P. 994. https://doi.org/10.1016/j.crhy.2012.09.008

  30. Wood V., Panzer M.J., Chen J. et al. // Adv. Mater. 2009. V. 21. № 21. P. 2151. https://doi.org/10.1002/adma.200803256

  31. Simonenko E.P., Mokrushin A.S., Simonenko N.P. et al. // Thin Solid Films 2019. V. 670. P. 46. https://doi.org/10.1016/j.tsf.2018.12.004

  32. Simonenko T.L., Simonenko N.P., Gorobtsov P.Y. et al. // J. Colloid Interface Sci. 2021. V. 588. P. 209. https://doi.org/10.1016/j.jcis.2020.12.052

  33. Fedorov F.S., Simonenko N.P., Trouillet V. et al. // ACS Appl. Mater. Interfaces. 2020. V. 12. № 50. P. 56 135. https://doi.org/10.1021/acsami.0c14055

  34. Simonenko T.L., Simonenko N.P., Gorobtsov P.Y. et al. // J. Alloys Compd. 2020. V. 832. P. 154957. https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2020.154957

  35. Mokrushin A.S., Fisenko N.A., Gorobtsov P.Y. et al. // Talanta. 2021. V. 221. P. 121455. https://doi.org/10.1016/j.talanta.2020.121455

  36. Volkov I.A., Simonenko N.P., Efimov A.A. et al. // Appl. Sci. 2021. V. 11. № 2. P. 526. https://doi.org/10.3390/app11020526

  37. Seo H., Kishimoto M., Ding C. et al. // Fuel Cells. 2020. V. 20. № 5. P. 570. https://doi.org/10.1002/fuce.202000079

  38. Noor N., Shapira A., Edri R. et al. // Adv. Sci. 2019. V. 6. № 11. P. 1900344. https://doi.org/10.1002/advs.201900344

Дополнительные материалы отсутствуют.