Журнал неорганической химии, 2020, T. 65, № 12, стр. 1721-1728

Стереолитографическая 3D-печать из суспензий, содержащих диоксид титана

Д. А. Козлов ab, С. А. Тихонова a, П. В. Евдокимов ab, В. И. Путляев a, А. В. Гаршев a*

a Московский государственный университет им. М.В. Ломоносова
119991 Москва, ул. Ленинские горы, 1, Россия

b Институт общей и неорганической химии им. Н.С. Курнакова РАН
119991 Москва, Ленинский пр-т, 31, Россия

* E-mail: garshev@inorg.chem.msu.ru

Поступила в редакцию 27.07.2020
После доработки 03.08.2020
Принята к публикации 04.08.2020

Полный текст (PDF)

Аннотация

В связи с широким применением диоксида титана в последние годы возникает все больше подходов к трехмерной печати материалов на его основе, среди которых наиболее перспективным из-за высокого разрешения и низких энергозатрат остается стереолитографическая 3D-печать. В представленное работе исследовано влияние кристалличности диоксида титана как на свойства получаемых суспензий для стереолитографической печати, так и на спекаемость напечатанных объемных материалов. Показано, что использование в качестве прекурсора аморфного диоксида титана позволяет увеличить долю неорганической фазы в суспензии, за счет этого достигается значительно меньшая усадка при спекании. Несмотря на высокие значения критической энергии полимеризации и низкую фоточувствительность получаемых суспензий, использование аморфного диоксида титана позволило в результате высокотемпературного отжига полностью удалить полимерное связующее без значительной деформации напечатанных образцов.

Ключевые слова: диоксид титана, аморфная фаза, стереолитография, 3D-печать

ВВЕДЕНИЕ

Благодаря высокой химической и термической стабильности, а также низкой стоимости и простоте получения диоксид титана и материалы на его основе находят широкое применение в катализе и гетерогенном фотокатализе [16], в качестве материалов для сорбции и очистки [7, 8], в биомедицине [912]. При этом во многих областях применения важным аспектом является не только фазовый и химический состав таких материалов, а также их геометрия, площадь поверхности, микро- и макропористость. В таких случаях для контроля геометрических параметров материалов наиболее подходящим способом может служить 3D-печать [1318]. Данный подход хорошо зарекомендовал себя для изготовления материалов на основе диоксида титана для фотокаталитического и биомедицинского назначения [1926].

Среди методов трехмерной печати материалов на основе диоксида титана наиболее развитыми являются термоэкструзионный метод [19, 20] и робокастинг [2124]. Несмотря на то, что изготовленные термоэкструзионным методом материалы демонстрируют высокие фотокаталитические [20] и биоактивные свойства [12], существенным недостатком данного метода является низкая разрешающая способность при трехмерной печати. Основными преимуществами при изготовлении материалов на основе диоксида титана методом робокастинга являются высокие значения удельной площади поверхности и возможность полного удаления органического связующего. При этом полученные материалы демонстрируют высокие значения сорбционной и фотокаталитической активности [2326]. Однако данный метод не позволяет широко варьировать геометрию получаемых материалов.

Альтернативными методами являются метод селективного лазерного плавления титана с последующим окислением поверхности [27] и стереолитографическая трехмерная печать. Несмотря на высокую разрешающую способность обоих методов, стереолитографическая 3D-печать – существенно менее энергозатратный и доступный метод.

В ряде исследований при стереолитографической 3D-печати материалов на основе диоксида титана в качестве титансодержащих прекурсоров используют акрилатные комплексы титана, благодаря чему при фотополимеризации происходит встраивание титана в структуру полимера [28, 29]. Последующий отжиг приводит к удалению полимерного каркаса и спеканию керамики диоксида титана только в случае высоких концентраций титанового комплекса. Увеличения доли титансодержащего прекурсора можно достичь за счет использования при печати суспензий диоксида титана с мономерами [30]. Этот подход объединяет высокую разрешающую способность стереолитографического метода трехмерной печати и высокую загрузку исходного материала титансодержащим прекурсором. Однако не известны работы, в которых бы отмечалось полное удаление полимерного связующего после стереолитографической печати суспензиями диоксида титана, что может быть связано с плохой спекаемостью кристаллических порошков и значительными различиями в температурах разложения полимерного связующего и фазового перехода диоксида титана. Эти недостатки могут быть устранены при использовании аморфного диоксида титана вследствие большего массопереноса в аморфных материалах, а также кристаллизации при температурах ниже температур фазовых переходов в TiO2. В связи с этим актуальным является исследование суспензий аморфного диоксида титана для стереолитографической трехмерной печати, а также спекаемости напечатанных материалов.

В настоящей работе был проведен анализ фоточувствительных суспензий аморфного и кристаллического диоксида титана, из которых методом стереолитографической 3D-печати были изготовлены материалы на основе диоксида титана с полным удалением полимерного связующего без значительного разрушения.

ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНАЯ ЧАСТЬ

Изготовление объемных материалов на основе диоксида титана проводили методом стереолитографической печати из светоотверждаемых суспензий мономеров и порошка диоксида титана различного фазового состава с последующим отжигом. В качестве наполнителей фоточувствительных суспензий были выбраны кристаллический и аморфный диоксид титана. В качестве кристаллического диоксида титана использовали коммерческий порошок TiO2 (Hombikat). Аморфный диоксид титана получали методом гидролиза TiCl4 по следующей методике. К 500 мл охлажденного до 0°С 10%-ного водного раствора аммиака (ч. д. а.) по каплям добавляли 50 мл TiCl4 (99.9%, Aldrich). Полученную суспензию перемешивали на магнитной мешалке в течение 60 мин, после чего осадок отделяли центрифугированием и дважды промывали дистиллированной водой. Для удаления остатков сопутствующих продуктов реакции полученный осадок подвергали диализу в дистиллированной воде до тех пор, пока значение проводимости не опускалось ниже 30 μСм/см. Полученный аморфный диоксид титана сушили при 80°С в течение 12 ч, образец был промаркирован am_TiO2.

Фоточувствительные суспензии изготавливали с использованием коммерчески доступной смеси мономеров для стереолитографической печати HighTemp (Formlabs, США). Для уменьшения вязкости в состав всех суспензий в качестве поверхностно-активного вещества добавляли 1% диспергирующей добавки BYK 985. При изготовлении суспензий нанокристаллического диоксида титана Hombikat использовали 12–30 мас. % TiO2, полученные суспензии маркировали Hombikat (HT) X%, где X – массовая доля TiO2. При использовании аморфного диоксида титана в состав суспензии добавляли 20–50 мас. % порошка am_TiO2, полученные суспензии маркировали am_TiO2 (HT) X%, где X – массовая доля TiO2.

Для печати титансодержащих материалов с заданной геометрией из полученных суспензий и определения фоточувствительности и критической энергии полимеризации суспензий использовали трехмерный стереолитографический DLP-принтер Ember (Autodesk, США). Длина волны излучения – 405 нм, мощность – 34.1 мДж/см2, латеральное разрешение – 50 мкм. Послойное разбиение и загрузку модели для печати на принтер проводили с использованием программного обеспечения Print Studio (Autodesk, США). Для исследования глубины полимеризации полученные суспензии облучали в течение различного времени (1–120 с) и измеряли толщину полученных образцов. В качестве проецируемого изображения был выбран круг диаметром 5 мм, толщину измеряли с помощью микрометра. Для определения фоточувствительности и критической энергии полимеризации полученных суспензий зависимость глубины полимеризации от дозы облучения аппроксимировали линейной зависимостью в полулогарифмических координатах согласно уравнению Джейкобса [31]:

(1)
$\begin{array}{*{20}{c}} {{{C}_{d}} = {{D}_{p}}\ln \left( {\frac{{{{E}_{0}}}}{{{{E}_{c}}}}} \right),} \end{array}$
где Cd – глубина фотополимеризации, Dp – фоточувствительность, Ec – критическая энергия фотополимеризации, E0 – энергия излучения.

После стереолитографической печати образцы промывали изопропиловым спиртом (ч. д. а.) для удаления остатков мономеров и отжигали при 700 и 1000°С.

Исследование методом рентгеновской дифрактометрии проводили на дифрактометре с вращающимся анодом Rigaku D/MAX 2500 (Rigaku, Япония) в режиме отражения (геометрия Брегга–Брентано) с использованием CuKα1,2-излучения и графитового монохроматора. Идентификацию дифракционных максимумов проводили с использованием базы данных ICDD. Полнопрофильный анализ дифрактограмм методом Ле-Бейля проводили с использованием бесплатного программного пакета Jana2006 [32]. Размер областей когерентного рассеяния оценивали с помощью формулы Шеррера:

(2)
$\begin{array}{*{20}{c}} {p = \frac{{180K\lambda }}{{\pi X}}} \end{array},$
где K – параметр формы частиц (принимали равным 0.9), λ – длина волны рентгеновского излучения, X – параметры уширения профиля рентгеновских пиков.

Распределение частиц нанокристаллического диоксида титана по размерам измеряли методом динамического светорассеяния на приборе Zetasizer Nano ZS (Malvern Panalytical, Великобритания). В случае образца am_TiO2 распределение частиц по размерам определяли методом статического светорассеяния с использованием лазерного дифракционного анализатора Analysette 22 MicroTec plus (Fritsch, Германия). Измерения проводили в водной среде, порошки предварительно диспергировали с помощью ультразвуковой обработки.

Растровую электронную микроскопию (РЭМ) и рентгеноспектральный микроанализ (РСМА) проводили на микроскопе Leo Supra 50 VP (Zeiss, Германия), оснащенном энергодисперсионным детектором X-MAX 80 (OxfordInst., Великобритания) при ускоряющем напряжении 10 и 20 кэВ. Анализ методом просвечивающей электронной микроскопии (ПЭМ) проводили с использованием электронного микроскопа Libra 200 MC (Zeiss, Германия) при ускоряющем напряжении 200 кВ.

РЕЗУЛЬТАТЫ И ОБСУЖДЕНИЕ

По результатам рентгенофазового анализа (РФА), контролируемый гидролиз хлорида титана(IV) в водном растворе аммиака с последующим диализом привел к формированию плохо закристаллизованного диоксида титана, на что указывают уширенные рефлексы образца am_TiO2, соответствующие фазам анатаза и брукита (рис. 1). Рассчитанный по формуле (2) размер области когерентного рассеяния составил 5 ± 1 нм, а количественный фазовый анализ с использованием внешнего стандарта корунда позволил рассчитать долю рентгеноаморфной фазы, которая составила 75 ± 5%. Фазовый состав коммерческого диоксида титана Hombikat включает анатаз (76 ± 3%), рутил (9 ± 2%) и рентгеноаморфную фазу (15 ± 3%) (рис. 1). Рассчитанный по формуле (2) размер кристаллитов анатаза и рутила равен 25 ± 2 и 42 ± 4 нм соответственно.

Рис. 1.

Дифрактограммы порошков диоксида титана: 1 – Hombikat, 2 – am_TiO2.

По результатам гранулометрического анализа (рис. 2), нанокристаллический диоксид титана Hombikat содержит кристаллиты размером 15–80 нм, что хорошо согласуется с данными РФА, тогда как образец am_TiO2 содержит агломераты размером 0.1–2 мкм. Полученные значения подтверждаются результатами РЭМ и ПЭМ (рис. 3). На изображении ПЭМ образца Hombikat (рис. 3а) видны хорошо ограненные кристаллиты размером 20–40 нм. По данным РЭМ, частицы порошка am_TiO2 имеют размеры до 2 мкм (рис. 3б), что в совокупности с результатами РФА указывает на то, что данные агломераты являются аморфной матрицей гидратированного диоксида титана с включениями нанокристаллического анатаза. Согласно РСМА, в составе am_TiO2 отсутствуют примесные элементы, что подтверждает удаление сопутствующих продуктов реакции в результате диализа.

Рис. 2.

Дифференциальное распределение частиц по размерам для порошков диоксида титана: 1 – Hombikat, 2 – am_TiO2.

Рис. 3.

ПЭМ-изображение диоксида титана Hombikat (а) и РЭМ-изображение образца am_TiO2 (б).

Результаты измерения глубины полимеризации от дозы облучения суспензий, представленные на рис. 4 в полулогарифмических координатах, носят линейный характер, что согласуется c уравнением (1). Рассчитанные значения фоточувствительности и критической энергии полимеризации суспензий представлены в табл. 1. Фоточувствительность суспензий нанокристаллического диоксида титана составила 10–30 мкм. Полученные значения существенно ниже фоточувствительности используемой смеси мономеров (~400 мкм), что, вероятно, связано с высоким рассеянием излучения на частицах диоксида титана нанометрового размера [33, 34]. Суспензии аморфного диоксида титана имеют большие значения фоточувствительности по сравнению с суспензиями кристаллического TiO2 (45–55 мкм) из-за большего размера частиц и меньшего рассеяния. Суспензии аморфного диоксида титана обладают также более высокой критической энергией полимеризации, что напрямую связано с концентрацией радикалов, генерирующихся под действием УФ-излучения [35, 36]. В случае суспензий am_TiO2 частичное поглощение УФ-излучения частицами диоксида титана приводит к увеличению критической энергии полимеризации с ростом доли TiO2 в суспензии. При облучении суспензий на основе кристаллического диоксида титана помимо поглощения возможна генерация электрон-дырочных пар, которые также приводят к полимеризации мономеров [37], за счет чего критическая энергия полимеризации значительно не увеличивается. Максимальные значения массовой доли диоксида титана 30 и 50% для суспензий кристаллического и аморфного диоксида титана соответственно вызваны высокими значениями вязкости получаемых суспензий. Использование суспензий большей вязкости требует значительно больших скоростей сдвига при трехмерной печати и, соответственно, применения альтернативного оборудования. С помощью значений фоточувствительности и критической энергии полимеризации суспензий Hombikat (HT) и am_TiO2 (HT) были рассчитаны характерные времена экспозиции каждого слоя (табл. 1). При величине шага построения в 50 мкм рассчитано время экспозиции, соответствующее 70–75 мкм для большего связывания слоев.

Рис. 4.

Зависимость глубины полимеризации от времени облучения: а – суспензии диоксида титана Hombikat: 1 – 12, 2 – 20, 3 – 30% TiO2; б – суспензии порошка am_TiO2: 1 – 20, 2 – 30, 3 – 40, 4 – 50% TiO2.

Таблица 1.  

Характеристики суспензий аморфного и кристаллического диоксида титана

Суспензия Фоточувствительность, мкм Критическая энергия полимеризации, мДж/см2 Толщина слоя при печати, мкм Время экспозиции одного слоя, с
Hombikat (HT) 12% 31.1 14 50 5
Hombikat (HT) 20% 12.4 2 50 15
Hombikat (HT) 30% 10.9 2 50 35
am_TiO2 (HT) 20% 58.3 42 50 4
am_TiO2 (HT) 30% 54.1 88 50 10
am_TiO2 (HT) 40% 52.7 133 50 15
am_TiO2 (HT) 50% 47.9 316 50 45

В качестве модельного объекта для стереолитографической печати был выбран параллелепипед высотой 3 мм с длиной стороны квадратного основания 5 мм. После стереолитографической печати образцы были обожжены при температурах 700 и 1000°С. Эти температуры были выбраны исходя из зависимости фазового состава аморфного диоксида титана от температуры отжига [38]. До 700°С стабильной остается фаза анатаза, в которой полностью кристаллизуется аморфный диоксид титана, а в диапазоне 700–950°С происходит фазовый переход анатаза в рутил.

Результаты измерения линейной усадки образцов после отжига при 1000°С (рис. 5) показали, что увеличение доли диоксида титана в составе образцов закономерно ведет к снижению усадки. При этом в случае образцов, изготовленных из суспензий Hombikat (HT), после высокотемпературного отжига наблюдалось значительное растрескивание и разрушение образцов (рис. 6а, 6б). Образцы, изготовленные из суспензий аморфного диоксида титана, показывают меньшую усадку без разрушения после отжига, что, вероятно, связано со спеканием при более низких температурах, вызванным как кристаллизацией аморфного диоксида титана, так и связанным с ним массопереносом.

Рис. 5.

Линейная усадка образцов диоксида титана после стереолитографической печати и отжига при 1000°С.

Рис. 6.

РЭМ-изображения образцов, изготовленных из суспензий Hombikat (HT) 30%, после отжига при 700 (а) и 1000°С (б, г). РЭМ-изображения образца, изготовленного из суспензии Hombikat (HT) 12%, после отжига при 1000°С (в).

На рис. 6 представлены РЭМ-изображения образцов, изготовленных из суспензий нанокристаллического диоксида титана, после стереолитографической печати и высокотемпературного отжига. Поверхность образца после отжига при 700°С представлена частицами размерами <100 нм, что может свидетельствовать об отсутствии спекания при данной температуре (рис. 6а). Увеличение температуры отжига до 1000°С приводит к значительному укрупнению зерен оксида титана вследствие спекания, вызванного фазовым переходом анатаза в рутил (рис. 6б). При этом структура остается неплотной, а размеры зерен составляют ~300 нм. На РЭМ-изображениях боковых граней образцов Hombikat (HT) 12 и 30% (рис. 6в, 6г) можно различить характерные периоды, отвечающие шагу построения при стереолитографической печати. В случае образца с содержанием диоксида титана 12% заметно значительное расслаивание слоев построения из-за плохого связывания между слоями. Увеличение объемной доли диоксида титана до 30% приводит к большему связыванию слоев, но получаемый образец все еще остается непрочным и разрушается при высокотемпературном отжиге.

Исследование микроструктуры образцов, изготовленных из суспензий аморфного диоксида титана (рис. 7), показало, что вследствие высокотемпературного отжига происходит спекание порошка, в связи с чем наблюдается укрупнение зерен на поверхности образцов. В случае образца с массовой долей диоксида титана 30% (рис. 7а) наблюдается аналогичная слоистая микроструктура, в которой период слоев соответствует шагу построения, а плохое связывание слоев указывает на то, что удаление связующего полимера при отжиге происходит раньше, чем спекание диоксида титана. При использовании 50 мас. % аморфного диоксида титана спекание между слоями происходит эффективнее (рис. 7б), и в результате высокотемпературного отжига удаление связующего полимера не приводит ни к значительному растрескиванию образца, ни к расслаиванию вследствие плохого межслоевого связывания.

Рис. 7.

РЭМ-изображения образцов, изготовленных из суспензий am_TiO2 (HT) 30% (а) и am_TiO2 (HT) 50% (б), после отжига при 1000°С.

ЗАКЛЮЧЕНИЕ

В представленной работе материалы из диоксида титана были получены методом стереолитографической трехмерной печати. При этом в качестве неорганического компонента в суспензиях использовали нанокристаллический и аморфный диоксид титана. В результате проведенных исследований было показано, что при увеличении доли аморфного диоксида титана в суспензии наблюдается значительное увеличение критической энергии полимеризации. В результате этого существенно возрастает время экспозиции единичного слоя, что в дальнейшем негативно сказывается на разрешающей способности данного метода. Тем не менее, в отличие от нанокристаллического TiO2, использование аморфного диоксида титана в составе суспензий позволило изготовить объемный образец с полным удалением полимерного связующего без значительного растрескивания и расслаивания за счет спекания при более низких температурах.

Список литературы

  1. Nakata K., Fujishima A. // J. Photochem. Photobiol. C. Photochem. Rev. 2012. V. 13. № 3. P. 169. https://doi.org/10.1016/j.jphotochemrev.2012.06.001

  2. Sreethawong T., Yamada Y., Kobayashi T. et al. // J. Mol. Catal. A. Chem. 2005. V. 241. № 1–2. P. 23. https://doi.org/10.1016/j.molcata.2005.07.009

  3. An T., Yang H., Song W. et al. // J. Phys. Chem. A. 2010. V. 114. № 7. P. 2569. https://doi.org/10.1021/jp911349y

  4. Ivanov V.K., Maksimov V.D., Shaporev A.S. et al. // Russ. J. Inorg. Chem. 2010. V. 55. № 2. P. 150. [Иванов В.К., Максимов В.Д., Шапорев А.С. и др. // Журн. неорган. химии. 2010. Т. 55. № 2. С. 154. https://doi.org/10.1134/S0036023610020026]10.1134/S0036023610020026

  5. Kolesnik I.V., Lebedev V.A., Garshev A.V. // Nanosyst. Physics, Chem. Math. 2018. V. 9. № 3. P. 401. https://doi.org/10.17586/2220-8054-2018-9-3-401-409

  6. Lebedev V.A., Kozlov D.A., Kolesnik I.V. et al. // Appl. Catal., B. Environ. 2016. V. 195. № 15. P. 39. https://doi.org/10.1016/j.apcatb.2016.05.010

  7. Anderson M.A., Gieselmann M.J., Xu Q. // J. Memb. Sci. 1988. V. 39. № 3. P. 243. https://doi.org/10.1016/S0376-7388(00)80932-1

  8. Oun A., Tahri N., Mahouche-Chergui S. et al. // Sep. Purif. Technol. 2017. V. 188. № 29. P. 126. https://doi.org/10.1016/j.seppur.2017.07.005

  9. Galkina O.L., Ivanov V.K., Agafonov A.V. et al. // J. Mater. Chem. B. 2015. V. 3. № 8. P. 1688. https://doi.org/10.1039/C4TB01823K

  10. Galkina O.L., Önneby K., Huang P. et al. // J. Mater. Chem. B. 2015. V. 3. № 35. P. 7125. https://doi.org/10.1039/C5TB01382H

  11. Li Z., Qu Y., Zhang X. et al. // Acta Biomater. 2009. V. 5. № 6. P. 2189. https://doi.org/10.1016/j.actbio.2009.02.013

  12. Rasoulianboroujeni M., Fahimipour F., Shah P. et al. // Mater. Sci. Eng., C. 2019. V. 96. P. 105. https://doi.org/10.1016/j.msec.2018.10.077

  13. Wang X., Jiang M., Zhou Z. et al. // Compos. Part B. Eng. 2017. V. 110. P. 442. https://doi.org/10.1016/j.compositesb.2016.11.034

  14. Chen Z., Li Z., Li J. et al. // J. Eur. Ceram. Soc. 2019. V. 39. № 4. P. 661. https://doi.org/10.1016/j.jeurceramsoc.2018.11.013

  15. Petrov A.K. // Inorg. Mater. 2017. V. 53. № 12. P. 1349. [Петров А.К. // Неорган. материалы. 2017. Т. 53. № 12. P. 1378. https://doi.org/10.7868/S0002337X1712020X]https://doi.org/10.1134/S0020168517110073

  16. Larionov D.S., Kuzina M.A., Evdokimov P.V. et al. // Russ. J. Inorg. Chem. 2020. V. 65. P. 312. [Ларионов Д.С., Кузина М.А., Евдокимов П.В. и др. // Журн. неорган. химии. 2020. Т. 65. № 3. С. 309.]https://doi.org/10.1134/S0036023620030079

  17. Tikhonov A., Evdokimov P., Klimashina E. et al. // J. Mech. Behav. Biomed. Mater. 2020. V. 110. P. 103 922. https://doi.org/10.1016/j.jmbbm.2020.103922

  18. Putlyaev V.I., Yevdokimov P.V., Mamonov S.A. et al. // Inorg. Mater. Appl. Res. 2019. V. 10. № 5. P. 1101. [Путляев В.И., Евдокимов П.В., Мамонов С.А. и др. // Перспективные материалы. 2019. № 5. С. 28. https://doi.org/10.30791/1028-978X-2019-5-28-40]https://doi.org/10.1134/S2075113319050277

  19. Elkoro A., Soler L., Llorca J. et al. // Appl. Mater. Today. 2019. V. 16. P. 265. https://doi.org/10.1016/j.apmt.2019.06.007

  20. Jo W., Yoon B.J., Lee H. et al. // Print. Addit. Manuf. 2017. V. 4. № 4. P. 222. https://doi.org/10.1089/3dp.2017.0033

  21. Aleni A.H., Kretzschmar N., Jansson A. et al. // Ceram. Int. 2020. V. 46. № 10. P. 16725. https://doi.org/10.1016/j.ceramint.2020.03.248

  22. He P., Tang X., Chen L. et al. // Adv. Funct. Mater. 2018. V. 28. № 29. P. 1801121. https://doi.org/10.1002/adfm.201801121

  23. Xu C., Liu T., Guo W. et al. // Adv. Eng. Mater. 2020. V. 22. № 3. P. 1901088. https://doi.org/10.1002/adem.201901088

  24. Mendez-Arriaga F., Calleja E. de la, Ruiz-Huerta L. et al. // Mater. Sci. Semicond. Process. 2019. V. 100. P. 35. https://doi.org/10.1016/j.mssp.2019.04.034

  25. Bergamonti L., Bergonzi C., Graiff C. et al. // Water Res. 2019. V. 163. P. 114841. https://doi.org/10.1016/j.watres.2019.07.008

  26. Chen L., Tang X., Xie P. et al. // Chem. Mater. 2018. V. 30. № 3. P. 799. https://doi.org/10.1021/acs.chemmater.7b04313

  27. Lee C.Y., Taylor A.C., Beirne S. et al. // Adv. Energy Mater. 2017. V. 7. № 21. P. 1701060. https://doi.org/10.1002/aenm.201701060

  28. Duan X.-M., Sun H.-B., Kaneko K. et al. // Thin Solid Films. 2004. V. 453–454. P. 581. https://doi.org/10.1016/j.tsf.2003.11.126

  29. Vyatskikh A., Kudo A., Delalande S. et al. // Mater. Today Commun. 2018. V. 15. P. 288. https://doi.org/10.1016/j.mtcomm.2018.02.010

  30. Liu F., Xie S., Wang Y. et al. // Rapid Prototyp. J. 2018. V. 24. № 9. P. 1421. https://doi.org/10.1108/RPJ-03-2017-0041

  31. Jacobs P.F. Rapid prototyping & manufacturing: Fundamentals of stereolithography. Dearborn: Society of Manufacturing Engineers, 1992. 434 p.

  32. Petříček V., Dušek M., Palatinus L. // Z. Kristallogr. 2014. V. 229. № 5. P. 345. https://doi.org/10.1515/zkri-2014-1737

  33. Gentry S.P., Halloran J.W. // J. Eur. Ceram. Soc. 2013. V. 33. № 10. P. 1981. https://doi.org/10.1016/j.jeurceramsoc.2013.02.033

  34. Gentry S.P., Halloran J.W. // J. Eur. Ceram. Soc. 2015. V. 35. № 6. P. 1895. https://doi.org/10.1016/j.jeurceramsoc.2014.12.006

  35. Lin Y., Stansbury J.W. // Polym. Adv. Technol. 2005. V. 16. № 2-3. P. 195. https://doi.org/10.1002/pat.562

  36. Tomeckova V., Halloran J.W. // J. Eur. Ceram. Soc. 2010. V. 30. № 14. P. 2833. https://doi.org/10.1016/j.jeurceramsoc.2010.01.027

  37. Mubarak S., Dhamodharan D., Divakaran N. et al. // Nanomaterials. 2020. V. 10. № 1. P. 79. https://doi.org/10.3390/nano10010079

  38. Poluboyarinov A.S., Chelpanov V.I., Lebedev V.A. et al. // Materials. 2019. V. 12. № 9. P. 1472. https://doi.org/10.3390/ma12091472

Дополнительные материалы отсутствуют.